کتاب Chemical Vapour Deposition: Growth Processes on an Atomic Level اثر Karin Larsson انتشارات مؤلفین طلایی
0%
(0 نفر) از خریداران، این کالا را پیشنهاد کرده اند
برند :
انتشارات مؤلفین طلاییویژگی ها
- نوع جلد : شومیز
- نوع کاغذ : تحریر
مشخصات محصول
رسوب شیمیایی بخار (CVD) یک روش رسوب در خلاء است که برای تولید مواد جامد با کیفیت بالا، با کارایی بالا استفاده می شود. این اولین کتابی است که فرآیندهای رشد CVD را در سطح اتمی با استفاده از ترکیبی از ابزارهای نظری و تجربی، از جمله محاسبات تئوری تابعی چگالی (DFT) پوشش میدهد. با نشان دادن روششناسی پشت مدلسازی و شبیهسازی فرآیندهای رشد CVD، این متن راهنمایی و توصیههای عملی در مورد چگونگی کسب نتایج نظری موفق ارائه میکند. مثالهای کار شده، مطالعات موردی، خلاصههای انتهای فصل و انیمیشنهای فرآیندهای سطح اتمی برای کمک به یادگیری گنجانده شدهاند. پس از خواندن این متن، محققان و دانشآموزان دانش لازم برای ایجاد فرآیندهای رشد مورد نظر برای رسوب مواد با خواص خاص را خواهند داشت.
این کتاب آخرین ویرایش این کتاب میباشد که توسط انتشارات مؤلفین طلایی به صورت اختصاصی در کشور به چاپ و نشر رسیده است.
نویسنده
Karin Larsson
ناشر
مؤلفین طلایی
موضوع
شیمی
قطع
وزیری
نوع جلد
شومیز
نوع کاغذ
تحریر
تعداد صفحه
416
